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真空镀铝膜厚度均匀性检测

来源:林上科技   发布时间:2013/4/2 17:54:30  浏览:
高品质的真空镀膜设备生产过程中镀膜层厚度均匀检测方法有光密度测量法和方阻测量法,林上真空镀铝薄膜在测厚仪就是用的光密度测量法。

  真空镀铝膜经常应用于具有阻隔性或遮光性要求的包装上使用,因此,镀铝膜层的厚度和表面状况以及附着牢度的大小将直接影响其镀膜产品的性能。镀铝膜的检测主要体现在镀膜层厚度、镀铝层牢度和镀铝层的表面状况等方面。高品质的镀铝膜要求在真空镀膜设备生产过程中镀膜层厚度均匀,在光学真空镀薄膜这是一项技术要求较高的工艺技术,
       随着真空镀铝膜的无间生长,检测真空镀铝薄膜的镀层厚度匀称性需要装配真空镀铝薄膜在测厚仪,在线监测镀膜过程中的镀层厚度的一致性。现今市场上已经有真空镀铝薄膜在测厚仪,公用于镀膜产品光学性能的在线监测,确保真空镀膜产品品质。

真空镀铝薄膜在测厚仪

       由于真空镀铝薄膜上的镀膜层非常薄,因此不能使用常规的测厚仪来检测其厚度,检测的方法主要有电阻法和光密度测量法。电阻法是利用欧姆定律来对镀铝膜层的厚度进行测量,根据欧姆定律:R=P*L/S。单位面积镀铝薄膜的电阻值越小,其镀铝层的厚度越厚,反之则越薄。光密度法是利用光学可见光透过率来监测镀膜层的均匀性,光密度(OD)定义为材料遮光能力的表征。它用透光镜测量。光密度没有量纲单位,是一个对数值,通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。表示被检测物吸收掉的光密度,是检测方法里出现的专有名词。它与透光率值存在固定公式转换关系。林上真空镀铝薄膜在测厚仪就是用的光密度测量法。
       光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。计算公式为:
       OD=log10(入射光/透射光)或OD=log10(1/透光率)
       通常镀铝膜的光密度值为1-3(即光线透过率为10%-0.1%),数值越大镀铝层越厚,使用真空镀铝薄膜在测厚仪就能详细了解镀铝膜的厚度均匀性与光学透光率值、光密度值之间的关系。

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