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离子镀膜机涂层特点

来源:林上科技   发布时间:2013/1/24 12:52:42  浏览:
真空镀膜设备离子镀膜机与蒸发镀膜机,溅射镀膜机相比,最大的特点是荷能离子一边轰击基体与膜层,一边进行沉积,生产过程中可用在线涂层测厚仪对镀层厚度进行监测。

  真空镀膜设备离子镀膜机与蒸发镀膜机、溅射镀膜机相比,最大的特点是荷能离子一边轰击基体与膜层,一边进行沉积。镀膜生产过程中对镀膜层厚度均匀性检测至关重要,真空镀薄膜可以通过透光率光密度光学性能来检测镀膜层厚度的均匀性,目前市场上林上科技有一款专业的在线涂层测厚仪可连续监控镀薄膜在线生产的镀膜品质。

离子镀膜机

       荷能离子的轰击作用所产生一系列的效应,主要有如下几点:
       1:膜/基结合力(附着力)强,膜层不易脱落。由于离子轰击基体产生的溅射作用,使基体受到清洗,激活及加热,既可以去除基体表面吸附的气体和污染层,也可以去除基体表面的氧化物。离子轰击时铲射的加热和缺陷可引起基体的增强扩散效应。既提高了基体表面层组织结晶性能,也提供了合金相形成的条件。而且,较高能量的离子轰击,还可以产生一定的离子注入和离子束混合效应。
       2:离子镀膜机由于产生良好的绕射性。在压力较高的情况下(≧1Pa)被电离的蒸汽的离子或分子在到达基体前的路程上将会遇到气体分子的多次碰撞。因此,可使膜材粒子散射在基体的周围。从而改善了膜层的覆盖性。而且,被电离的膜材离子,还会在电厂的作用下沉积在具有负电压基体表面的任意位置上。因此,这一点蒸发镀是无法达到的。
       3:镀层质量高。由于离子轰击可提高膜的致密度,改善膜的组织结构,使得膜层的均匀度好,镀层组织致密,针孔和气泡少。因此,提高了膜层的质量。
       4:沉积速率高,成膜速度快,可制备30um的厚膜。
       5:镀膜所适用的基体材料与膜层材料均比较广泛。适用于在金属或非金属表面上镀制金属、化合物、非金属材料的膜层。如在钢铁、有色金属、石英、陶瓷、塑料等各种材料表面镀膜。由于等离子体的活性有利于降低化合物的合成温度,因此离子镀比较容易地镀制各种吵硬化合物薄膜。
       由于离子镀膜机具有上述特点,所以其应用范围极为广泛。利用离子镀技术可以子在金属、合金、导电材料甚至非导电材料(采用高频偏压)基体上进行镀膜。离子镀沉积的膜层可以是金属膜、多元合金膜、化合物膜;既可镀单一镀层,也可镀复合膜层;还可以镀梯度镀层和纳米多层镀层。采用不同的膜材,不同的反应气体以及不同的工艺方法和参数,可以获得表面强化的硬质耐磨镀层,致密且化学性质稳定的耐蚀镀层,固体润滑层,各种色泽的装饰镀层以及电子学、光学、能源科学等所需的特殊功能镀层。离子镀技术和离子镀的镀层产品已得到非常广泛的应用。

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